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长正中是指

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  • 【名词&注释】

    偏头痛(migraine)、语言表达(language expression)、半衰期(half-life)、腮腺良性肿瘤(parotid benign tumor)、接触区(contact area)、后退接触位(retruded contact position)、不必要的(unnecessary)、牙尖交错位、固位形(retention form)、抗力形(resistance form)

  • [单选题]长正中是指

  • A. 由后退接触位自如地滑到牙尖交错位
    B. 由牙尖交错位向前滑到后退接触位
    C. 由后退接触位向前滑动到牙尖交错位
    D. 由牙尖交错位自如地直向前滑动到后退接触位
    E. 由后退接触位自如地直向前滑动到牙尖交错位

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  • 学习资料:
  • [单选题]下颌第一磨牙近中接触区位于
  • A. 1/3处
    B. 1/3水平的颊1/3与中1/3交界处
    C. 近颌缘偏颊侧
    D. 中1/3处
    E. 1/3水平的中1/3与舌1/3交界处

  • [单选题]Th1细胞分泌
  • A. IFNγ
    B. IL-4
    C. IL-5
    D. IL-6
    E. IL-10

  • [单选题]按一级动力学消除的药物,其半衰期
  • A. 随用药剂量而变
    B. 随给药途径而变
    C. 随血浆浓度而变
    D. 随给药次数而变
    E. 固定不变

  • [单选题]患者,男性,65岁,主诉左眼失明多次发作,每次持续5分钟。目前持续头痛,语言表达困难,右手及右侧下部面肌力弱。最可能的诊断是
  • A. 左侧大脑中动脉闭塞
    B. 累及左侧运动皮层区的局灶性癫痫发作
    C. 左侧颈内动脉闭塞
    D. 慢性硬脑膜下血肿
    E. 偏头痛

  • [单选题]任何窝洞都需要
  • A. 合适的外形,固位形(retention form)和抗力形(resistance form)
    B. 合适的外形和抗力形(resistance form)
    C. 合适的外形和固位形(retention form)
    D. 合适的固位形(retention form)和抗力形(resistance form)

  • [单选题]某患者因腮腺良性肿瘤将于次日行腮腺浅叶切除术加面神经解剖术,今日术前家属签字时,关于术后并发症的谈话中以下哪项是不必要的(unnecessary)()
  • A. 涎瘘
    B. Frey综合征
    C. 可能出现半侧下颌骨麻木
    D. 术后可能出现面瘫
    E. 耳垂麻木

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