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唇高线与平面间距离应为上颌中切牙唇面高度的

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    溶解性(solubility)、表面自由能(surface free energy)、脱矿物质(demineralization)

  • [单选题]唇高线与平面间距离应为上颌中切牙唇面高度的

  • A. 1/2
    B. 1/3
    C. 1/4
    D. 2/5
    E. 2/3

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  • 学习资料:
  • [单选题]关于氟的抗龋机制,正确的描述是
  • A. 降低釉质的溶解性
    B. 促进釉质脱矿物质的再矿化
    C. 降低釉质表面自由能
    D. 干扰细菌代谢
    E. 以上都是

  • [单选题]初诊时尖牙唇侧错位的患者,矫治后,其保持器应选
  • A. 牙齿正位器
    B. 颏兜
    C. 改良Hawley保持器Ⅲ型
    D. 改良Hanley保持Ⅱ型
    E. 改良Hawley保持器Ⅰ型

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