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唇高线与平面间距离应为上颌中切牙唇面高度的

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    社会发展(social development)、实事求是(seeking truth from facts)、科学态度(scientific attitude)、受试者、抵抗力(resistance)、有利于(beneficial to)、人体实验(human experiment)、静止龋(static caries)

  • [单选题]唇高线与平面间距离应为上颌中切牙唇面高度的

  • A. 1/2
    B. 1/3
    C. 1/4
    D. 2/5
    E. 2/3

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  • 学习资料:
  • [单选题]窝沟封闭的适应证不包括
  • A. 窝沟深,有可疑龋,卡住探针
    B. 窝沟深,无龋损
    C. 患者有患邻面龋倾向
    D. 窝沟可插入探针
    E. 牙齿颊侧溢出沟深、窄

  • [单选题]静止龋(static caries)产生的条件是由于病变环境改变使
  • A. 机体抵抗力增强
    B. 口内致龋病菌减少
    C. 牙齿抗酸能力增强
    D. 原有致龋条件消失
    E. 牙齿再矿化能力增强

  • [单选题]人体实验(human experiment)的道德原则,不包括
  • A. 有利于(beneficial to)医学和社会发展
    B. 必须实事求是
    C. 维护受试者利益
    D. 严谨的科学态度
    E. 受试者知情同意

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