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下列叙述中不正确的是

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    缓冲区(buffer)、耐火材料(refractory)、牙本质过敏症(dentin hypersensitivity)、楔状缺损(wedge-shaped defect)、无牙颌(edentulous jaw)、固定桥(fixed bridge)、牙髓钙化(dental pulp calcification)、全口义齿固位(retention of complete denture)、设计图(design drawing)、下颌牙槽(alveoli dentales mandibulae)

  • [单选题]下列叙述中不正确的是

  • A. 腭护板可以戴到正式义颌完成时
    B. 腭护板戴入后,一般不需要修改
    C. 腭护板戴入后,白天、夜间均要戴
    D. 腭护板可在外科手术后6~10天制作
    E. 腭护板可以周期性添加暂衬材料

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  • [单选题]关于下颌牙槽(alveoli dentales mandibulae)嵴的描述,不正确的是 ( )
  • A. 牙槽嵴表面覆盖着高度角化的鳞状上皮及紧密的粘膜下层
    B. 是影响下全口义齿固位(retention of complete denture)的主要区域
    C. 下颌牙槽(alveoli dentales mandibulae)嵴可变成刃状或低平
    D. 下颌牙槽(alveoli dentales mandibulae)嵴呈弓形
    E. 下颌牙槽(alveoli dentales mandibulae)嵴支持咀嚼压力的面积较上颌小

  • [单选题]双侧上颌第一磨牙缺失,选用的最佳连接杆是 ( )
  • A. 后腭杆
    B. 前腭杆
    C. 近中腭杆
    D. 舌侧连接杆
    E. 颊侧连接杆

  • [单选题]下列疾病不引起牙本质过敏症的是
  • A. 磨耗
    B. 龋病
    C. 牙髓钙化(dental pulp calcification)
    D. 楔状缺损
    E. 牙折

  • [单选题]关于无牙颌的分区,下列不属于缓冲区的是
  • A. 牙槽嵴上的骨尖
    B. 上颌隆突
    C. 上颌结节
    D. 切牙乳突
    E. 下颌磨牙后垫

  • [单选题]采用带模铸造法制作局部义齿支架时,先在工作模型上参考观测线画出设计图(design drawing),经过填倒凹、做缓冲和衬垫,然后可以
  • A. 制作支架蜡型
    B. 制作熔模
    C. 翻制耐火材料模型
    D. 安放铸道
    E. 制作义齿蜡型

  • [单选题]3/4冠最主要的缺点为
  • A. 就位困难
    B. 不能作固定桥固位体
    C. 磨牙多
    D. 外形线长,不利防龋
    E. 不美观

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