正确答案: E

取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目：初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

解析：后腭杆一般应离开黏膜0.5～1mm，该题目设计离开黏膜过高，因此应重新取印模重新制作腭杆，故此题选E。

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